日本表面真空学会

2019年9月4日（水）～6日（金）

パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204　交通アクセス
（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

「薄膜の基本技術講座」全6講座／各講座2時間 （講義時間には、休憩、質疑時間を含みます）

9月4日（水） 12:30～14:30（受付12:00～）
スパッタ薄膜の組成制御、構造制御

9月4日（水） 15:00～17:00（受付14:30～）
半導体・LSIの薄膜プロセスと評価

9月5日（木） 12:30～14:30（受付12:00～）
ディスプレイ、半導体産業、成膜、表面分析に役立つ高真空技術

9月5日（木） 15:00～17:00（受付14:30～）
プラズマプロセスによるダイヤモンドライクカーボン薄膜堆積の基礎とその応用

9月6日（金） 12:30～14:30（受付12:00～）
LED・ワイドギャップ半導体素子製造プロセスと結晶成長の課題

9月6日（金） 15:00～17:00（受付14:30～）
真空蒸着：成膜の基礎および光学薄膜

各講座とも54名

各講座とも一般（ 会員・非会員 ）5,000円、学生 1,000円 （テキスト代・消費税込）
※テキストは講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものです。

上記各講座のリンク先よりお申込みください。

当日、会場（会議室E204）前の受付にてお支払いください。領収書を発行します。
※なるべくお釣りのないようご準備ください。

「VACUUM2019 真空展」ホームページ： https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/