日本表面真空学会

2019年9月6日（金）12:30～14:30（受付12:00～）

パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204　交通アクセス
（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

講　　師： 松本 　功（大陽日酸株式会社 サイエンスアドバイザー）

講義内容： １．ワイドギャップ半導体と素子応用
                ２．MOCVDおよびHVPEによる結晶成長技術
                ３．電子デバイス用結晶成長の課題
　　　　　  4．発光デバイス用結晶成長の課題
                 5．光・電子デバイスの生産性向上

参加のおすすめ
　昨今、青色発光ダイオード（青色LED）、高速通信素子や省エネ用大電力制御素子の観点からワイドギャップ半導体素子が注目されています。LED・ワイドギャップ半導体の結晶成長（装置・プロセス）を中心にデバイスからの要求と結晶成長プロセスの関係を解説します。特に、結晶成長に必要なMOCVD技術の特徴を真空技術の観点から解説します。

54名

一般 （ 会員・非会員 ）5,000円、学生 1,000円 （テキスト代・消費税込）
※テキストは講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものです。

申込みは終了しました。

当日、会場（会議室E204）前の受付にてお支払いください。領収書を発行します。
※なるべくお釣りのないようご準備ください。

問合せ先：　公益社団法人日本表面真空学会
                  TEL 03-3812-0266　　FAX 03-3812-2897
                  E-mail: office@jvss.jp

「VACUUM2019 真空展」ホームページ： https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/