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[ml] 第53回薄膜・表面物理セミナー（2025）のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；有馬健太（大阪大学）

＜日本表面真空学会協賛＞
応用物理学会薄膜・表面物理分科会では、本年度の薄膜表面セミナーを
「デバイス製造における固液界面現象の科学と技術」と題して下記の要領で
開催いたします。

本セミナーでは、近年益々注目が高まる次世代の電子デバイス製造で鍵を握る
固液界面現象に関わる技術や科学の最前線について、
表面プロセス（洗浄やエッチング）や材料（シリコン系、二次元層状物質、
有機半導体）の観点、
さらには、国際的な人材流動化との関連にも着目しながら講演をいただきます。

開催形式は対面及びオンラインのハイブリッドとしておりますので、
ご都合に合わせて参加方法を選択していただけます。
また、学生は所属学会に関わらず無料での参加が可能ですので、
ぜひお近くの学生さんにもお声がけください。

参加申し込みは６月２８日まで受付けておりますので多くの皆様のご参加をお待ちしております。

日時：2025年7月4日（金） 9：45～16：35
場所：大阪大学中之島センター10F 佐治敬三メモリアルホール4
　　　及び Zoom (ハイブリッド)

プログラム：
　田中孝佳「界面化学から見る半導体洗浄技術の過去・現在・未来」
　北島知彦「シリコンバレーの半導体製造装置メーカーにおける先端デバイス開発の取り組み」
　馬渡和真「ナノ流体デバイスで明らかにする数nmから数100nmの溶液物性や構造」
　田原太平「ヘテロダイン検出振動和周波発生分光による水／酸化物界面の観測」
　藤井彰彦「有機半導体の印刷製膜の現状と課題」
　桐谷乃輔「溶液処理による遷移金属ダイカルコゲナイドの光学特性変調」

詳細情報及び参加登録方法：
URL：https://annex.jsap.or.jp/tfspd/%e3%82%bb%e3%83%9f%e3%83%8a%e3%83%bc%ef%bc%9a%e3%83%87%e3%83%90%e3%82%a4%e3%82%b9%e8%a3%bd%e9%80%a0%e3%81%ab%e3%81%8a%e3%81%91%e3%82%8b%e5%9b%ba%e6%b6%b2%e7%95%8c%e9%9d%a2%e7%8f%be%e8%b1%a1%e3%81%ae/

PDF版チラシ：
URL：https://annex.jsap.or.jp/tfspd/wp201510/wp-content/uploads/2025/03/%E7%AC%AC53%E5%9B%9E%E8%96%84%E8%86%9C%E8%A1%A8%E9%9D%A2%E7%89%A9%E7%90%86%E3%82%BB%E3%83%9F%E3%83%8A%E3%83%BC.pdf

問い合わせ先：
有馬健太（大阪大学： arima@prec.eng.osaka-u.ac.jp ）
須藤孝一（大阪大学： sudoh@sanken.osaka-u.ac.jp ）

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞