公益社団法人 日本表面真空学会



スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)2024年度技術講習会

主催

日本表面真空学会

開催日

2024年11月28日(木)10:00~16:30(開場9:30~)

締切日

2024年11月13日

会場

機械振興会館 地下3階 B2-2号室 6階 6-67号室 *部屋を変更しました。
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)

プログラム

スパッタリング製膜において、構造や組成の制御に役立つ知識を解説します。スパッタプロセスの基礎過程(特に輸送過程)、粒子エネルギーと薄膜構造の相関、高密度プラズマを用いて堆積粒子をイオン化しエネルギーを付与する手法、反応性スパッタリングのプロセス制御、背景圧力が薄膜の不純物混入に与える影響などについて、講師が過去に実施してきた研究例を含めて紹介します。

講 師
中野 武雄(成蹊大学 理工学部 教授、SP部会長)

題 目
スパッタリング製膜プロセスの背景知識と膜質制御

講義内容
1.スパッタリング製膜の基礎過程
  ターゲットにおける粒子放出過程
  スパッタ粒子の輸送過程

2.スパッタリング薄膜の形成過程と薄膜構造
  PVD薄膜形成の基礎
  スパッタ薄膜構造のゾーンモデル
  薄膜の構造と物性

3.プラズマを制御するスパッタリング製膜法
  プラズマの基礎とプラズマ-壁相互作用
  大電力パルススパッタ (HiPIMS)、
  HiPIMSを用いた薄膜構造制御・微細構造作製技術

4.反応性スパッタリング
  金属モード・化合物モードとヒステリシス
  Bergの反応性スパッタリングモデル
  プロセスパラメータ平面におけるモード遷移点のユニバーサリティ

5.その他の話題
  ターゲットエロージョンプロファイルの時間変化
  真空環境と薄膜への不純物混入

参加定員

30名(先着順にて定員になり次第締め切らせていただきます。)
*SP部会員限定で10名の追加申込を受け付けます。

費用

SP部会員 8,000円
日本表面真空学会個人正会員 25,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方 25,000円
一 般 40,000円
学 生  3,000円
*消費税込(テキスト代、昼食代含む)

*日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員の企業名はこちらをご確認ください。

申込方法

申込みは終了しました。

支払方法

銀行振込
*申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。
(銀行振込のため領収書は発行いたしません。ご了承ください。)

*「受講者の都合による取消し及び不参加」の場合、受講料の払い戻しはいたしません。ただし、受講者の変更は差し支えありません。

備考

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
E-mail: office@jvss.jp  TEL: 03-3812-0266



日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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