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[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第187回定例研究会のご案内

[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第187回定例研究会のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；中野武雄（成蹊大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第187回定例研究会
「スパッタ装置コンポーネントの現状と展望－開発とユーザーが交差する最前線－」

スパッタリングは、1960年代より薄膜抵抗やコンデンサなどの半導体・電子デバイス製造に応用されており、スパッタ現象の発見時にまで遡ると150年以上の歴史を有する代表的なプラズマプロセス技術です。現在においても、半導体分野や機能性薄膜形成に不可欠な成膜技術として広く利用されています。本研究会では、スパッタ装置の性能を支える各種コンポーネントに着目し、開発側およびユーザー側の双方の視点から理解を深めることを目的としております。「スパッタ装置コンポーネントの現状と展望」をテーマに、最先端の開発動向や応用事例について、大学・国立研究機関・企業の第一線で活躍する研究者・技術者による講演を予定しています。また、本研究会が装置技術を軸とした分野内の活発な意見交換および交流の場となることを期待します。

日時：2026年10月20日（火）13:00～16:10
場所：機械振興会館地下3階 B3-2会議室
　　（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8）

プログラム：
13:00～13:10　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長（成蹊大学）中野武雄
13:10～13:50
「光学薄膜プロセスがスパッタコンポーネントに求めるもの」
（株式会社オプトラン）寺内友哉
13:50～14:30
「真空成膜・表面処理装置で用いられる真空計の原理と信頼性」
（産業技術総合研究所）吉田肇
14:30～14:40　休憩
14:40～15:20
「スパッタリングターゲットにおける材料・プロセス開発について」
（JX金属株式会社）中住征治
15:20～16:00
「小型イオンポンプ内蔵超高真空セルの開発」
（産業技術総合研究所）倉島優一
16:00～16:10　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会副部会長（東京都立大学）清水徹英