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[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）2025年度勉強会のご案内

[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）2025年度勉強会のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；中野武雄（成蹊大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
2025年度勉強会「HiPIMS放電への理解と新展開」

本部会では、近年急速に関心が高まっている大電力パルススパッタリング（通称HiPIMS: High Power Impulse Magnetron Sputtering）技術に焦点
をあてた勉強会を開催いたします。HiPIMSは、従来の直流スパッタリングに比べて高密度かつ高イオン化率のプラズマを生成できる点に特徴があ
り、薄膜材料の結晶性制御や機能性付与、新規材料探索など多方面で応用が期待されています。近年では、半導体・光学デバイスから耐環境性コー
ティングに至るまで、その利用範囲が拡大しつつあり、学術的にも産業的にも注目される分野となっています。本勉強会では、3名の講師より、基
礎的理解から最新研究成果、さらには応用事例に至るまで多角的な話題提供をいただきます。またそれぞれの話題について、参加者全員で自由闊達
な意見交換を行うためのフリーディスカッションの時間を長めに設け、研究の現状や課題、今後の展望について率直に語り合う場とします。通常の
セミナー形式とは異なり、双方向の交流を重視した構成とすることで、新たな研究連携や着想の契機となることを目指しています。会員・非会員を
問わず、HiPIMSに関心をお持ちの研究者・技術者の皆さまの積極的なご参加を心よりお待ちしております。

日　時：2025年11月20日（木）13:30～17:00

場　所：成蹊大学 11号館 3F 交流プラットフォーム
　　　（〒180-8633 東京都武蔵野市吉祥寺北町3-3-1）

プログラム：
13:30～13:35　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長　中野武雄（成蹊大学）
13:35～14:35（30分講演 30分質疑）
「Bipolar HiPIMSなど、プラズマ電位を制御するHiPIMSの原理」
　中野武雄（成蹊大学）
14:35～14:45　休憩
14:45～15:45（30分講演 30分質疑）
「Burst HiPIMS (DOMS)のプラズマ放電特性と制御」
　實方真臣（東京工芸大学）
15:45～15:55　休憩
15:55～16:55（30分講演 30分質疑）
「反応性HiPIMSにおけるパルス電流波形と反応性モード遷移」
　清水徹英（東京都立大学）
16:55～17:00　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会副部会長　清水徹英（東京都立大学）

参加費
　SP部会会員：無料
　日本表面真空学会個人正会員：23,000円
　日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
　教育機関、公的機関に属する方：12,000円
　学生： 1,000円
　一般：28,000円
　※資料の配布はございません。

参加定員：30名

申込締切：2025年11月7日（金）

申込方法：ホームページよりお申込みください。
　https://www.jvss.jp/ja/activities/40/detail/00031.html

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　E-mail: office＠jvss.jp　TEL 03-3812-0266

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞