日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会

2025年11月20日（木）13:30～17:00（開場13:00～）

成蹊大学 11号館 3F 交流プラットフォーム
（〒180-8633 東京都武蔵野市吉祥寺北町3-3-1）

本部会では、近年急速に関心が高まっている大電力パルススパッタリング（通称HiPIMS: High Power Impulse Magnetron Sputtering）技術に焦点をあてた勉強会を開催いたします。HiPIMSは、従来の直流スパッタリングに比べて高密度かつ高イオン化率のプラズマを生成できる点に特徴があり、薄膜材料の結晶性制御や機能性付与、新規材料探索など多方面で応用が期待されています。近年では、半導体・光学デバイスから耐環境性コーティングに至るまで、その利用範囲が拡大しつつあり、学術的にも産業的にも注目される分野となっています。本勉強会では、3名の講師より、基礎的理解から最新研究成果、さらには応用事例に至るまで多角的な話題提供をいただきます。またそれぞれの話題について、参加者全員で自由闊達な意見交換を行うためのフリーディスカッションの時間を長めに設け、研究の現状や課題、今後の展望について率直に語り合う場とします。通常のセミナー形式とは異なり、双方向の交流を重視した構成とすることで、新たな研究連携や着想の契機となることを目指しています。会員・非会員を問わず、HiPIMSに関心をお持ちの研究者・技術者の皆さまの積極的なご参加を心よりお待ちしております。

テーマ
HiPIMS放電への理解と新展開

プログラム
13:30～13:35　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 部会長　中野 武雄（成蹊大学）

13:35～14:35（30分講演 30分質疑）
「Bipolar HiPIMSなど、プラズマ電位を制御するHiPIMSの原理」
　中野 武雄（成蹊大学）

14:35～14:45　休 憩

14:45～15:45（30分講演 30分質疑）
「Burst HiPIMS (DOMS)のプラズマ放電特性と制御」
　實方 真臣（東京工芸大学）

15:45～15:55　休 憩

15:55～16:55（30分講演 30分質疑）
「反応性HiPIMSにおけるパルス電流波形と反応性モード遷移」
　清水 徹英（東京都立大学）

16:55～17:00　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 副部会長　清水 徹英（東京都立大学）

30名

SP部会会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 1,000円
一般：28,000円
（消費税込み）

＊日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員の企業名はこちらをご確認ください。

＊資料の配布はございません。

こちらの申込フォームからお申込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
　受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。

申込締切　2025年11月7日（金）

銀行振込
＊申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。
（銀行振込のため領収書は発行いたしません。ご了承ください。）

＊「参加者の都合による取消し及び不参加」の場合、受講料の払い戻しはいたしません。
　ただし、参加者の変更は差し支えありません。

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
E-mail: office@jvss.jp　　TEL 03-3812-0266

本件担当
日本表面真空学会 SP部会　清水 徹英（東京都立大学）