日本表面真空学会

2026年10月16日（金）13:15～16:35（現地/接続受付13:00～）

機械振興会館 地下3階 研修-2会議室 およびオンライン（Zoom）
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8）

主題「真空システム・材料表面のクリーン化技術：表面清浄化とダスト制御」

近年の最先端科学技術および産業界において、真空環境に求められる「クリーンさ」への要求はますます高度化しています。半導体微細プロセスをはじめ、近年では量子技術開発、先端表面分析、宇宙開発、核融合炉、超伝導加速器にいたるまで、異物（ダスト・パーティクル）や残留有機汚染を極限まで排除した「超清浄真空（Ultra Clean Vacuum: UCV）」技術の確立が不可欠となっています。これらの環境を達成・維持するためには、容器・材料表面の清浄化技術、ならびに粉体・ダスト制御、抑制にいたる包括的なアプローチが重要です。本研究例会では、これらクリーン化技術の最前線で活躍する専門家をお招きし、実際の研究・開発についての講演を予定しています。皆様の積極的なご参加をお待ちしております。

講演プログラム
13:15～13:20　開会の挨拶
　山本 将博（真空技術部会）

13:20～14:05
「高速エアジェットによる固体表面乾式洗浄の高効率化」
　後藤 邦彰（岡山大学工学部 化学生命系学科）

14:05～14:50
「超伝導加速空洞の高性能化に必要なクリーン真空技術」
　阪井 寛志（高エネルギー加速器研究機構）

14:50～15:00　休憩

15:00～15:45
「三愛オブリテックができる化学研磨/電解研磨」
　塩野入 正和（三愛オブリテック株式会社）

15:45～16:30
「プラズマ・ラジカルを利用した原子層表面プロセス」
　石川 健治（名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター）

16:30～16:35　閉会の挨拶
　関口 信一（真空技術部会）

現地90名、オンライン100名

日本表面真空学会個人正会員：3,000円
日本表面真空学会法人正会員・維持会員・賛助会員に属する個人：3,000円
協賛学会会員（法人含む）：3,000円
非会員：5,000円
学生（予稿集購入）：1,000円
学生（予稿集不要）：無料
※上記金額には消費税、予稿集代を含みます。

※日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員の企業名はこちらをご確認ください。

こちらの申込フォームからお申し込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
　受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。
（迷惑メールに振り分けられている可能性がありますので、まずはご確認ください。）

申込締切　2026年9月30日（水）

銀行振込（申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。）

銀行振込のため領収書は発行いたしません。銀行が発行いたします受領書をもって本会の領収書に代えさせていただきます。
なお、「参加者の都合による取り消し及び不参加」の場合、参加費の払い戻しはいたしません。
ただし、参加者の変更は差し支えありません。

応用物理学会、精密工学会、電気化学会、日本顕微鏡学会、日本真空工業会、日本光学会、粉体工学会（予定）

問合せ先
日本表面真空学会 事務局　E-mail: office@jvss.jp

本件担当
日本表面真空学会 真空技術部会　山本 将博（高エネルギー加速器研究機構）