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学会の活動
真空展
VACUUM2026真空展「真空と薄膜の基本技術講座」

VACUUM2026真空展「真空と薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2026年11月19日（木）、20日（金）12:30～14:30、15:00～17:00

締切日

2026年11月18日

会場

東京ビッグサイト東ホール2階東2-商談室(4)
（東京都江東区有明3-11-1）

プログラム

現場で活きる！真空工学と薄膜作製の基礎から応用まで学べる講座
未来のデバイスは見えない“真空”の中で創られます。超高真空からスパッタ・蒸着まで、第一線の講師が実プロセスの要点や“真空の質”の重要性をわかりやすく解説します。各講座は独立しており、新入社員から中堅まで目的に応じて選べる集中講座です。

◆11月19日（木）12:30～14:30（受付12:00～）
「超高真空技術」
　山川紘一郎（日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター研究副主幹）
講義内容：
　1．超高真空の基礎
　2．真空計
　3．真空ポンプ
　4．超高真空材料
　5．成膜に向けた装置製作及び運用
超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加ください。

◆11月19日（木）15:00～17:00（受付14:30～）
「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
　恒川孝二（キヤノンアネルバ株式会社取締役最高技術責任者）
講義内容：
　1．各種成膜手法とスパッタ成膜の特徴
　2．スパッタ成膜の原理
　3．様々なスパッタ装置と成膜プロセス
　4．半導体・電子デバイスへの応用例
　5．スピントロニクスデバイスの成膜技術
スパッタ成膜は、半導体・電子デバイスの製造に広く用いられている基幹技術です。近年では装置技術の進歩により、ナノメートルオーダーの超薄膜や多層膜を高精度に形成できるようになり、デバイス性能の飛躍的な向上や、新たな物理現象に基づく革新的デバイスの実現を支えています。本講義では、各種成膜手法の中でのスパッタ成膜の位置付けと特徴、成膜原理、最新のスパッタ装置およびプロセス技術について解説します。さらに、超薄膜技術を活用した半導体・電子デバイスの最新事例を紹介するとともに、その代表例であるMRAMや磁気センサなどのスピントロニクスデバイスを取り上げ、成膜技術の観点から分かりやすく解説します。

◆11月20日（金）12:30～14:30（受付12:00～）
「真空蒸着法、有機EL製造技術～真空の”質”：その重要性と影響～」
　藤本　弘（福岡県産業・科学技術振興財団有機光エレクトロニクス実用化開発センター（i³-opera）副センター長兼研究室長、九州大学客員教授）
講義内容：
　1．はじめに：有機ELと薄膜形成技術
　2．真空蒸着の基礎と蒸発源
　3．有機EL素子製作と真空の質
真空蒸着法は、古くからある薄膜形成技術の一つです。有機ELディスプレイでは、比較的低温で蒸着する有機材料を長時間かつ大面積に均一に成膜することが求められます。このため、蒸着の基礎を理解することは非常に重要です。さらに、真空の質は有機EL素子の耐久性に大きな影響を与えます。本講座では、真空蒸着の基礎と真空の物理に関する基本的な知識を解説し、真空の質がいかに重要か、その研究成果を紹介します。

◆11月20日（金）15:00～17:00（受付14:30～）
「反応性スパッタによる薄膜堆積法の基礎と機能性酸化膜作製」
　沖村邦雄（東海大学工学部電気電子工学科教授）
講義内容：
　1．スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
　2．スパッタ成膜の成膜パラメータと堆積膜の組成及び構造の関係
　3．反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
　4．基板バイアス印加の効果と構造制御の例
本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力等の成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか調べます。酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について詳しく解説します。本年は具体例を詳しく取り上げ、光学薄膜、透明導電膜、相転移酸化膜における組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。
（注）本講座の内容の一部は、真空夏季大学と重複しますのでご注意ください。

※上記講義時間には、休憩・質疑時間を含みます。

参加定員

各講座とも30名（定員になり次第締切とさせていただきます。）

費用

一般 6,000円、学生 1,500円／講座（資料代・消費税込）

資料
講義用スライドを1ページあたり4スライドでモノクロ印刷したもの（A4サイズ）

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ただし、定員超えで空席がない場合は受講できませんのでご容赦ください。