公益社団法人 日本表面真空学会

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VACUUM2026真空展「真空と薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2026年11月19日(木)、20日(金)12:30~14:30、15:00~17:00

締切日

2026年11月18日

会場

東京ビッグサイト 東ホール2階 東2-商談室(4)
(東京都江東区有明3-11-1)

プログラム

現場で活きる!真空工学と薄膜作製の基礎から応用まで学べる講座
未来のデバイスは見えない“真空”の中で創られます。超高真空からスパッタ・蒸着まで、第一線の講師が実プロセスの要点や“真空の質”の重要性をわかりやすく解説します。各講座は独立しており、新入社員から中堅まで目的に応じて選べる集中講座です。

◆11月19日(木)12:30~14:30(受付12:00~)
「超高真空技術」
山川 紘一郎(日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター 研究副主幹)

◆11月19日(木)15:00~17:00(受付14:30~)
「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
恒川 孝二(キヤノンアネルバ株式会社 取締役 最高技術責任者)

◆11月20日(金)12:30~14:30(受付12:00~)
「真空蒸着法、有機EL製造技術 ~真空の”質”:その重要性と影響~」
藤本 弘(福岡県産業・科学技術振興財団 有機光エレクトロニクス実用化開発センター(i3-opera)副センター長 兼 研究室長、九州大学客員教授)

◆11月20日(金)15:00~17:00(受付14:30~)
「反応性スパッタによる薄膜堆積法の基礎と機能性酸化膜作製」
沖村 邦雄(東海大学 工学部 電気電子工学科 教授)

※上記講義時間には、休憩・質疑時間を含みます。

参加定員

各講座とも30名(定員になり次第締切とさせていただきます。)

費用

一般 6,000円、学生 1,500円/講座(資料代・消費税込)

資料
講義用スライドを1ページあたり4スライドでモノクロ印刷したもの(A4サイズ)

プラスワン・キャンペーン
事前Web申込限定で「プラスワン・キャンペーン」を実施します。
お申し込みいただいた講座と同数の別講座を無料で受講できます。
プラスワン・キャンペーンの無料受講のお申し込みは、当日、該当講座の受付デスクにお申し出ください。
ただし、定員超えで空席がない場合は受講できませんのでご容赦ください。

申込方法

以下のVACUUM2026真空展のサイトよりお申し込みください。
※お申し込みには「VACUUM2026真空展」への入場登録が必要です。

11月19日(木)12:30-「超高真空技術」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

11月19日(木)15:00-「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

11月20日(金)12:30-「真空蒸着法、有機EL製造技術 ~真空の”質”:その重要性と影響~」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

11月20日(金)15:00-「反応性スパッタによる薄膜堆積法の基礎と機能性酸化膜作製」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

支払方法

事前支払い(参加登録サイトにてクレジット決済)

備考

問合せ先
日本表面真空学会 事務局 E-mail: office@jvss.jp

日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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