公益社団法人 日本表面真空学会



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2020年度 日本表面真空学会 論文賞・熊谷記念真空科学論文賞・会誌賞・奨励賞・技術賞・産業賞 受賞決定のお知らせ

2020-08-24

2020年度 日本表面真空学会
論文賞・熊谷記念真空科学論文賞・会誌賞・奨励賞・技術賞・産業賞
受賞決定のお知らせ
公益社団法人日本表面真空学会
会長 重川 秀実

本誌63巻2号にて、2020年度の日本表面真空学会論文賞、熊谷記念真空科学論文賞、会誌賞、 奨励賞、技術賞および産業賞の候補の推薦を会員の皆様にお願い致しました。ご推薦頂きました論 文について、厳正なる審査を行った結果、下記の論文の著者に本年度の日本表面真空学会論文賞、 熊谷記念真空科学論文賞、会誌賞、奨励賞、技術賞を贈呈いたすこととなりました。
また、産業賞に関しては表面・真空科学関連産業の進歩発展に大きく貢献したと認められる製品、 技術ノウハウ等を対象に、厳正なる審査を行った結果、下記の2社に対して本年度の日本表面真空 学会産業賞を贈呈いたすこととなりました。
贈呈式は、2020年度日本表面真空学会学術講演会の期間中に行います。
受賞記念講演は一般講演と併せて11月19日(木)~21日(土)の間に行います。

【論文賞】
該当なし

【熊谷記念真空科学論文賞】
受   賞   者:清水元希、鈴木菜摘、那須裕一、坪井 嶺、倉橋裕之、荒川一郎、山川紘一郎*
所         属:学習院大学物理学科
受 賞 論 文:超高真空テラヘルツ分光装置の開発:真空蒸着D2O氷のスペクトルの温度依存性
掲載号・頁:「表面と真空」 Vol.61-4 236-243

【会誌賞1】
受   賞   者:高橋克幸*・高木浩一
所         属:岩手大学理工学部
受 賞 論 文:パルスパワーによる水中プラズマの形成と環境浄化および農水分野への利用
掲載号・頁:「表面と真空」 Vol.61-3 131-142

【会誌賞2】
受   賞   者:Kenichi Ozawa1*, Susumu Yamamoto2, Kazuhiko Mase3,4, Iwao Matsuda2,5
所       属:1Department of Chemistry, Tokyo Institute of Technology、2Institute for Solid
                  State Physics, The University of Tokyo、3Institute of Materials Structure
                  Science, High Energy Accelerator Research Organization (KEK)、4SOKENDAI
                  (The Graduate University for Advanced Studies) 、5Institute of
                  Multidisciplinary Research for Advanced Materials
受 賞 論 文:A Surface Science Approach to Unveiling the TiO2 Photocatalytic Mechanism:
                  Correlation between Photocatalytic Activity and Carrier Lifetime
掲載号・頁:「e-Journal of Surface Science and Nanotechnology」Vol.17 (2019) 130-147

【奨励賞】
受   賞   者:福田 美実1,2,(井上 枝実3・四本松 康太3・清水 麻希・本間 芳和1,3*)
所         属:1東京理科大学 グローバルサイエンスキャンパス、2洗足学園高等学校、
                  3東京理科大学 理学部 物理学科
受 賞 論 文:垂直配向カーボンナノチューブを用いた最大静止摩擦力の測定
掲載号・頁:「表面と真空」Vol.62-1 39-43

【技術賞1】
受   賞   者:高橋 善和*
所         属:株式会社 TI
受 賞 論 文:ガスバリアフィルムのガス透過性の計測
掲載号・頁:「表面と真空」Vol.62-12 724-730

【産業賞1】
受   賞   社:東京電子株式会社(法人正会員)
受 賞 業 績:大電力パルススパッタリング法(HiPIMS)用の電源を自社で開発、異常放電を抑
                  制しながら成膜速度を向上

【産業賞2】
受   賞   社:大陽日酸株式会社(法人正会員)
受 賞 業 績:AlN、GaN などの紫外発光デバイス用および先端デバイス用MOCVD



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