会誌「表面科学」

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 第37巻 第3号  2016年3月

Editor's Choice

炭素クラスターイオン注入したシリコンの透過型電子顕微鏡像


表面科学 第37巻 第3号 (2016) p. 104

特集テーマの関連論文

シリコンウェーハの表面分析
藤野 允克, 角田 成夫
Vol. 10 (1989) No. 3 p. 162

ゲート酸化膜の薄層化と高品質化
逸見 学
Vol. 16 (1995) No. 1 p. 60

次世代太陽電池開発におけるシリコン太陽電池の位置づけと技術課題
山口 真史
Vol. 21 (2000) No. 5 P. 248

Contents


■ 巻頭言

“シリコン最新技術の高感度画像センサへの展開”特集号に寄せて

干川 圭吾
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 103


■ 特集:シリコン最新技術の高感度画像センサへの展開

(研究紹介)
クラスターイオン注入によるCMOSセンサのゲッタリング技術

栗田 一成,門野 武,奥山 亮輔,廣瀬 諒,柾田 亜由美,奥田 秀彦,古賀 祥泰
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 104



(研究紹介)
最先端LSIプロセスにおける重金属汚染の制御

嵯峨 幸一郎
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 110



(研究紹介)
シリコン単結晶育成中の点欠陥挙動に与える置換型ドーパントと熱応力の効果

末岡 浩治
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 116



(研究紹介)
シリコン結晶欠陥評価へのカソードルミネッセンス法の応用

杉江 隆一,内田 智之,小坂 賢一
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 122



(研究紹介)
Si中Cu,Niの熱的振る舞い:フォトルミネッセンス/DLTS測定

中村 稔,村上 進,鵜殿 治彦
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 128


■ 連載企画

(安全な社会と表面科学③)
建築物の火災被害軽減に向けた取り組みと課題

萩原 一郎
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 134


■ 談話室

(海外研究体験記)
ドイツの生活と研究

宮本 幸治
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 137


(開催報告)
2015年真空・表面科学合同講演会ならびに第35回表面科学学術講演会の報告

藤田 大介
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 139


■ 表面科学技術者資格認定試験例題

表面科学技術者資格認定試験例題 No. 30


■ 先端追跡

[R-579] グラフェンを用いた中赤外分光バイオセンサー
長尾忠昭
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 142

[R-580] 最近のグラフェンを用いたセンサーとデバイス展開
中村篤志
Vol. 37, No. 3 (2016) p. 142


■ FOCUS on e-JSSNT
e-JSSNT最新論文 No. 137

■ 編集後記

 2015年8月21日に「圧倒的なシェアを誇るCMOSセンサー,2019年には150億ドル規模に」,「車載やセキュリティ,ゲームなど用途が拡大している」(EE Times Japan)という喜ばしい報道がありました。これはシリコンの最新の表面・界面技術に基づく成果ということです。最新シリコン技術が,我が国の半導体技術を,さらには我が国の産業全体を復活させることを願い,本特集号がその一助となることを願って編集させていただきました。研究紹介論文をご寄稿頂いた先生方にはまことにありがとうございました。 
(嘉数 誠)

 シリコン結晶中の不純物制御は,日本のお家芸といってもよく,半導体産業の黎明期より研究されてきた技術分野です。しかし,最近のデバイス製造現場では意外とゲッタリングに関する議論をすることはありません(結晶メーカー任せになっています)。近年,撮像デバイスや3次元積層集積デバイスなどが試作商品化される中で,基板を薄化することが求められ,プロセス開発に際してゲッタリング技術を見直さなければならないときが来ています。本特集を通じて古くて新しい最新のゲッタリング技術に接していただければと思っています。  
(中村 誠)


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