■ 巻頭言
■ 特集：新ヘテロ界面の実現に向けた半導体結晶成長技術の進展
■ 論文
■ 談話室
■ 先端追跡
■ 編集後記
本特集号では，半導体結晶成長の最近の話題を取り上げました。
さて編集が行われている間に，お二人の日本人の先生方がノーベル化学賞を受賞されるという，
とても嬉しいニュースが飛び込んできました。大変おめでとうございます。
一方で，表面科学誌で
特集号として取り上げた
ことのある「グラフェン」の分野で，
英国の研究者二人が物理学賞を受賞し，表面科学誌の新材料が，社会的に，産業的に，
大きな注目を集めることに，大きな喜びを感じました。
最後に，本特集号にご多忙な中で執筆いただきました先生方に深く感謝いたします。
（嘉数 誠）
本特集号では，自己組織化，表面電子状態の制御，エピタキシャル成長における表面形状・
界面制御など，次世代デバイスや新機能材料の開発を目的として，
半導体表面・界面にナノテクノロジーを応用した研究を紹介していただきました。
この特集を機会に多くの方々に興味を持っていただければ幸いです。
またこの場を借りまして，御執筆いただいた著者の方々に厚くお礼を申し上げます。
（目良 裕）
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