[前号 (Vol. 16, No. 7)] [次号 (Vol. 16, No. 9)] [会誌 総目次]
15周年記念事業と会誌「表面科学」 (image PDF 62K) 岩澤康裕 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 473
(論文) 酸化鉄系材料を用いた二硫化ジメチル検知用半導体ガスセンサ 阿武裕一，玉置 純，浅野泰一，林 研司，三浦則雄，山添 曻 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 474
(論文) 水素化カーボン膜のトライボエミッション—電子放出特性について— 池田浩司，中山景次 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 480
(論文) ジアセチレンLB膜のスピン磁性 高村 巧，松下 賢，下山雄平 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 486
(論文) 金属系多層膜を用いた電子の減衰長の測定 鈴木峰晴，竹中久貴，茂木カデナ Vol. 16, No. 8 (1995) p. 492
(論文) α-二酸化マンガン表面構造のAFM観察 松岡 修，山本貞明，深田 功，芦田芳憲，本多忠敏，山本直一 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 497
(論文) シリコンのプラズマ酸化における酸素イオンの効果 上岡 功，北島正弘，河辺隆也，中村一隆，菱田俊一 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 504
(論文) Ni-Fe系酸化物のフェノール合成に対する触媒活性と微細構造 市川祐永，名越正泰，土谷康夫，三木 淳，鹿田 勉 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 510
(論文) XPSにおける粉末固定法とその評価 中村朋美，富塚 仁，高橋元幾，星 孝弘 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 515
(論文) HFによる酸化物除去に伴うSi(111)表面の疎水化過程 杉田義博，渡辺 悟 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 521
(ノート) HFウェットエッチングを併用したSiO2薄膜中のNaのSIMS分析 渡辺玲子，工藤正博 Vol. 16, No. 8 (1995) p. 530
(ノート) H-Termination and Local DOS Effects for Silicon Nitride Cluster in Molecular Orbital Calculation Rika SEKINE, Hiroshi KATAOKA, Shuzo TOKUMITSU, Kazuyuki EDAMOTO and Eizo MIYAZAKI Vol. 16, No. 8 (1995) p. 532
