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[ml_238] SP部会第163回定例研究会・第16回技術交流会(12/9)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）

　　　　第163回定例研究会・第16回技術交流会

　ＳＰ部会では、会員相互の技術情報交換の場を提供するために、年末の定例研究会と技術交流会の同時開催を企画しています。毎回ご好評をいただいており、同時開催は今年で16回目となります。今回の定例研究会ではスパッタリング成膜におけるターゲットからのイオン衝撃を積極的に利用した成膜技術、また近年注目されつつある有機材料などのスパッタリングに関する基礎的な研究をとりあげました。また、本年6月に開催されましたISSP2019のポスター賞受賞者の発表を含め開催します。
　技術交流会ではショートプレゼンテーションとポスターセッションをあわせた形で開催いたします。またポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします。この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき、会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております。部会員以外の方の参加も歓迎いたします。皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。
　なお、ポスター発表者の当日（定例研究会と技術交流会）の参加費は無料です。

日時：2019年12月9日（月） 13:00～19:00（受付12:40～）

場所：機械振興会館　地下3階研修-2号室（東京都港区芝公園3-5-8）
　　　 http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html

プログラム：
●定例研究会

13:00～13:40
「スパッタ法におけるイオン照射を利用した六方晶系圧電薄膜の結晶配向制御」
　高柳真司（同志社大学生命医科学部医情報学科）

13:40～14:20
「生体分子の薄膜試料の高速C₆₀イオン照射によるスパッタリング」
　中嶋　薫（京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻）

14:20～14:40（ISSP2019ポスター賞受賞講演/日本語）
「Electrochromic Properties of Sputter-Deposited Rhodium Oxide Thin Film with Various Thickness」
　C. Y. Jeong*^1),2), Y. Abe¹⁾, M. Kawamura¹⁾, K. H. Kim¹⁾, T.Kiba¹⁾, H. Watanabe²⁾, T. Kawamoto²⁾, K. Tajima²⁾
　¹⁾Kitami Institute of Technology, ²⁾AIST

14:40～15:00（ISSP2019ポスター賞受賞講演/日本語）
「Treatment of Deteriorated Cutting Fluid by Atmospheric-Pressure Plasma and in-Liquid Plasma」
　J. Miyamoto*¹⁾, R. Tsuboi¹⁾, S. Kawada²⁾, M. Yoshida¹⁾
　¹⁾Daido University, ²⁾Tokyo University of Science

15:00～15:20　休憩

●技術交流会

15:20～17:20　ショートプレゼンテーション（1件8分程度× MAX15件予定）

17:30～19:00　ポスターセッション

参加費：当日受付にてお支払いください。
　ＳＰ部会会員                                                                         無　料
　日本表面真空学会個人正会員                                                  ￥23,000
　日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員所属の方         ￥18,000
　教育機関，公的機関に属する方                                               ￥12,000
　学　生                                                                                 ￥5,000
　一　般                                                                               ￥28,000
　ポスター発表者                                                                       無　料

申込方法：ホームページよりお申込みください。 https://www.jvss.jp/

【ポスター発表を募集いたします】
ポスター発表のみでも結構ですが、できるだけショートプレゼンもお願いいたします。発表内容については特に制限を設けません。
新製品の宣伝的な内容、困り事の相談的な内容でも結構です。
研究機関等にご所属の方の研究紹介も歓迎します。
発表を希望される方は、ホームページよりお申し込みください。

○ポスター発表申込期限：　11月25日（月）
○アブストラクト提出期限：11月28日（木）
○アブストラクト提出先：日本表面真空学会事務局 office＠jvss.jp

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 TEL: 03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897
　　　　　 E-mail: office＠jvss.jp